193 nm Luftabstands-Wellenplatte nullter Ordnung
Die 193 nm luftbeabstandete Nullordnungs-Wellenplatte ohne Klebeschichten verfügt über eine hohe strukturelle Stabilität und ist alterungsbeständig. Quarz ist korrosionsbeständig gegenüber tiefer UV-Strahlung und eignet sich für den kontinuierlichen Hochleistungslaserbetrieb mit konsistenter Polarisationskontrolle.
Merkmale: Luftspalt Dicke 0,3~1,5 mm Hohe Schadensschwelle AR-beschichtet und montiert |  |
Artikelnr. :
WPA-193nmProduktherkunft :
FuZhouSpezifikationen:
Material: | Quarz |
Durchmessertoleranz: | +0,0, -0,1 mm |
Wellenfrontverzerrung: | λ/8 bei 632,8 nm |
Verzögerungstoleranz: | λ/50 |
Parallelität: | <1 Bogensekunde |
Oberflächenqualität: | 20/10 |
Freie Blende: | >80 % |
Beschichtung: | S1&S2: R<0,2 % @ Wellenlänge |
Standardwellenlänge: | 193 nm |
Standardprodukte:
Halbwellenplatten P/N# | Viertelwellenplatten P/N# | Durchmesser (mm) |
WPA-210-193 | WPA-410-193 | 10,0 |
WPA-212-193 | WPA-412-193 | 12.7 |
WPA-215-193 | WPA-415-193 | 15,0 |
WPA-220-193 | WPA-420-193 | 20,0 |
WPA-225-193 | WPA-425-193 | 25.4 |
WPA-230-193 | WPA-430-193 | 30,0 |
WPA-235-193 | WPA-435-193 | 35,0 |
WPA-250-193 | WPA-450-193 | 50,0 |
Technische Vorteile der 193 nm Luftabstands-Wellenplatte nullter Ordnung:
Die 193-nm-Luftspalt-Wellenplatte verwendet eine duale Quarz-Luftspaltstruktur, die den Materialabsorptionsverlust deutlich reduziert und eine hervorragende Transmission im tiefen UV-Bereich, wie beispielsweise bei ArF-Excimerlasern, bietet. Das Luftspaltdesign vermeidet thermische Spannungen durch Bonding und ermöglicht so einen langfristigen Hochleistungslaserbetrieb. Durch die Ionenstrahlbearbeitung wird eine nanometergroße Oberflächenebenheit erreicht, die Streuverluste deutlich reduziert und die Wellenfrontqualität optimiert. Dies eignet sich für eine hochpräzise Polarisationskontrolle in der Lithografie.
193 nm Glan-Taylor-Polarisator nutzt doppelbrechende α-BBO-Kristalle, die durch einen Luftspalt getrennt sind, um Absorptionsprobleme durch Klebematerialien im tiefen UV-Bereich zu vermeiden. Einschichtige MgF₂-Antireflexbeschichtungen gewährleisten eine hohe Transmission bei 193 nm bei gleichzeitig hervorragender Extinktion. Dank der hohen Laserzerstörschwelle eignet es sich ideal für die hochpräzise Polarisationskontrolle in Anwendungen wie der ArF-Excimerlaserlithografie und der Tief-UV-Laserbearbeitung. Merkmale:LuftspaltIn der Nähe von Brewster's Angle CuttingHohe PolarisationsreinheitTransmission im tiefen Ultraviolett
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Das 193-nm-Glan-Laserprisma verwendet EUV-Kristalle mit hoher optischer Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Polarisationsstabilität bei schmaler Bandbreite. Die präzise Verpackung reduziert die optische Wegabweichung und eignet sich für die hochpräzise Tief-UV-Lasererkennung. Merkmale:LuftspaltIn der Nähe von Brewster's Angle CuttingHohe PolarisationsreinheitMit Fluchtfenster montiertGeeignet für Hochleistungsanwendungen
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193 nm Niedrige Ordnung Wellenplatte, ein Polarisationsgerät für tiefes Ultraviolett, passt den Polarisationszustand des einfallenden Lichts präzise an. Es wird in DUV-Systemen wie der Lithografie und der Laserforschung eingesetzt und besteht aus strahlungsresistenten Materialien für 193 nm, um Stabilität und Genauigkeit zu gewährleisten. Merkmale: Dicke: 0,1-0,5 mm Hohe Schadensschwelle
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Die 193 nm luftbeabstandete Nullordnungs-Wellenplatte ohne Klebeschichten verfügt über eine hohe strukturelle Stabilität und ist alterungsbeständig. Quarz ist korrosionsbeständig gegenüber tiefer UV-Strahlung und eignet sich für den kontinuierlichen Hochleistungslaserbetrieb mit konsistenter Polarisationskontrolle. Merkmale:LuftspaltDicke 0,3~1,5 mmHohe SchadensschwelleAR-beschichtet und montiert
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