193 nm Glan-Taylor-Polarisator nutzt doppelbrechende α-BBO-Kristalle, die durch einen Luftspalt getrennt sind, um Absorptionsprobleme durch Klebematerialien im tiefen UV-Bereich zu vermeiden. Einschichtige MgF₂-Antireflexbeschichtungen gewährleisten eine hohe Transmission bei 193 nm bei gleichzeitig hervorragender Extinktion. Dank der hohen Laserzerstörschwelle eignet es sich ideal für die hochpräzise Polarisationskontrolle in Anwendungen wie der ArF-Excimerlaserlithografie und der Tief-UV-Laserbearbeitung.
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Merkmale: Luftspalt In der Nähe von Brewster's Angle Cutting Hohe Polarisationsreinheit Transmission im tiefen Ultraviolett |
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Artikelnr. :
GTP-193Produktherkunft :
FuZhouSpezifikationen:
| Material: | Materialien für tiefes Ultraviolett |
| Wellenlängenbereich: | 193,368 nm |
| Aussterberate: | <1x10-4 |
| Parallelität: | <1 Bogen Min |
| Oberflächenqualität: | 20/10 |
| Strahlabweichung: | < 3 Bogenminuten |
| Wellenformverzerrung: | 1/4@632,8 nm |
| Schadensschwelle: | >200 MW/cm2 |
193 nm Glan-Taylor-Polarisator
| Teile-Nr. | Wellenlängenbereich (nm) | Aussterberate | Bildwinkel (°) | CA fa(mm) | Außendurchmesser fd (mm) | L ±0,1 (mm) |
| GTP4006 | 193.368 | <5 x 10-6 | >6,0 | 5,0 | 25.4 | 13,0 |
| GTP4008 | 6.5 | 25.4 | 14,0 | |||
| GTP4010 | 8,0 | 25.4 | 16,0 | |||
| GTP4013 | 10,0 | 25.4 | 20,0 | |||
| GTP4015 | 12,0 | 30,0 | 23,0 | |||
| GTP4020 | 18,0 | 38.1 | 28,0 | |||
| GTP4025 | 22,0 | 50,8 | 33,0 |
Die technischen Vorteile von 193 nm Glan-Taylor-Polarisator：
Der 193-nm-Glan-Taylor-Polarisator besteht aus tief-UV-kompatiblen Materialien mit extrem geringer Absorption und hervorragender Transmission bei 193 nm, wodurch die Polarisationsrichtung präzise beibehalten wird. Sein Luftspaltdesign verhindert Absorptionsstörungen durch Klebstoffe im tiefen UV-Bereich. In Kombination mit speziellen Antireflexbeschichtungen werden Reflexionsverluste reduziert, was für leistungsstarke Tief-UV-Laserszenarien geeignet ist.
193 nm Glan-Taylor-Polarisator nutzt doppelbrechende α-BBO-Kristalle, die durch einen Luftspalt getrennt sind, um Absorptionsprobleme durch Klebematerialien im tiefen UV-Bereich zu vermeiden. Einschichtige MgF₂-Antireflexbeschichtungen gewährleisten eine hohe Transmission bei 193 nm bei gleichzeitig hervorragender Extinktion. Dank der hohen Laserzerstörschwelle eignet es sich ideal für die hochpräzise Polarisationskontrolle in Anwendungen wie der ArF-Excimerlaserlithografie und der Tief-UV-Laserbearbeitung. Merkmale: Luftspalt In der Nähe von Brewster's Angle Cutting Hohe Polarisationsreinheit Transmission im tiefen Ultraviolett
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