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193 nm Wellenplatte niedriger Ordnung

HEIM VUV-kundenspezifische Polarisatoren für Laser @193 nm

193 nm Wellenplatte niedriger Ordnung

Verzögerungsplatte für tiefes Ultraviolett
193 nm Wellenplatte niedriger Ordnung

193 nm Niedrige Ordnung Wellenplatte, ein Polarisationsgerät für tiefes Ultraviolett, passt den Polarisationszustand des einfallenden Lichts präzise an. Es wird in DUV-Systemen wie der Lithografie und der Laserforschung eingesetzt und besteht aus strahlungsresistenten Materialien für 193 nm, um Stabilität und Genauigkeit zu gewährleisten.

 

Merkmale:

Dicke: 0,1-0,5 mm

Hohe Schadensschwelle

 

  • Artikelnr. :

    WPL
  • Produktherkunft :

    FuZhou
NEUE PRODUKTE

Spezifikationen:

Material:
Quarz
Durchmessertoleranz:
+0,0, -0,1 mm
Wellenfrontverzerrung:
λ/8 bei 632,8 nm
Verzögerungstoleranz:
λ/50
Parallelität:
<1 Bogensekunde
Oberflächenqualität:
20/10
Freie Blende:
>90 %
Beschichtung:
S1&S2: R<0,2 % @ Wellenlänge
Standardwellenlänge:
193,368 nm

 

193 nm Produkte:

Halbwellenplatten P/N#
Viertelwellenplatten P/N#
Durchmesser (mm)
WPL-210-193
WPL-410-193
10,0
WPL-212-193
WPL-412-193
12.7
WPL-215-193
WPL-415-193
15,0
WPL-220-193
WPL-420-193
20,0
WPL-225-193
WPL-425-193
25,4
WPL-230-193
WPL-430-193
30,0
WPL-235-193
WPL-435-193
35,0
WPL-250-193
WPL-450-193
50,0

 

Technische Vorteile von 193-nm-Mehrordnungswellenplatten:
193-nm-Mehrordnungs-Wellenplatten erreichen eine hohe Phasenverzögerung durch die Optimierung doppelbrechender Materialien, die auf tiefe ultraviolette Wellenlängen zugeschnitten sind, und die Kombination von Ionenstrahl-Finishing-Technologie. Zu den Hauptvorteilen gehören eine hohe Verzögerungspräzision mit Phasenfehlern <±1 % bei 193 nm Wellenlänge – Der Einsatz der Ionenstrahl-Finishing-Technologie reduziert Mikroabweichungen in der optischen Dicke von Materialien erheblich und ermöglicht so eine präzisere Polarisationskontrolle für Tief-Ultraviolett-Lasersysteme wie Excimerlaser. Seine kompakte Struktur macht komplexe Kaskadendesigns überflüssig, sodass es sich hervorragend für integrierte optische Tief-Ultraviolett-Module in Lithografiesystemen eignet. Eine hohe Laserzerstörschwelle (> 5 J/cm² bei 193 nm) gewährleistet seine Zuverlässigkeit bei Hochleistungs-Tief-Ultraviolett-Anwendungen, während die durch das Ionenstrahl-Finishing erzeugte ultraglatte Oberfläche das Risiko einer lokalen Energieakkumulation bei hochenergetischer Laserbestrahlung weiter verringert. In spektralen Polarisationsmesssystemen für Tief-Ultraviolett hält die durch das Ionenstrahl-Finishing gewährleistete stabile Phasenverzögerung den Messfehler des Polarisationsgrads innerhalb von 2 % und erleichtert so hochpräzise Polarisationsanalysen in Szenarien wie der Fotolackcharakterisierung und der Spektroskopie der atmosphärischen Ozonschicht.

 

 

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