Das 193-nm-Glan-Laserprisma verwendet EUV-Kristalle mit hoher optischer Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Polarisationsstabilität bei schmaler Bandbreite. Die präzise Verpackung reduziert die optische Wegabweichung und eignet sich für die hochpräzise Tief-UV-Lasererkennung.
Merkmale: Luftspalt In der Nähe von Brewster's Angle Cutting Hohe Polarisationsreinheit Mit Fluchtfenster montiert Geeignet für Hochleistungsanwendungen |
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Artikelnr. :
GLP-193Produktherkunft :
FuZhouSpezifikationen:
| Material: | EUV-Kristall |
| Wellenlängenbereich: | 193,368 nm |
| Aussterberate: | <1x10-4 |
| Parallelität: | <1 Bogen Min |
| Oberflächenqualität: | 20/10 |
| Strahlabweichung: | < 3 Bogenminuten |
| Wellenformverzerrung: | λ/4 bei 632,8 nm |
| Schadensschwelle: | >500 MW/cm2 |
193 nm Glan-Laserpolarisatoren
| Teile-Nr. | Wellenlängenbereich (nm) | Aussterberate | Bildwinkel (°) | CA fa(mm) | Außendurchmesser fd (mm) | L ±0,1 (mm) |
| GLP4006 | 193.368 | <5 x 10-6 | >6,0 | 6,0 | 15,0 | 29,0 |
| GLP4008 | 8,0 | 25.4 | 31,0 | |||
| GLP4010 | 10,0 | 25.4 | 31,0 | |||
| GLP4015 | 15,0 | 30,0 | 38,6 | |||
| GLP4020 | 20,0 | 38,0 | 48,9 |
Die technischen Vorteile von 193 nm Glan-Laserpolarisatoren：
Zu den technischen Vorteilen der 193-nm-Glan-Laserpolarisatoren zählen eine hohe Polarisationsreinheit und eine stabile Leistung auch bei Weitwinkeleinfall. Sie verfügen über eine ausgezeichnete thermische Stabilität mit minimalen optischen Schwankungen über einen weiten Temperaturbereich. Dank ihrer hohen Laserresistenz eignen sie sich für Hochleistungs-Tief-UV-Anwendungen. Kompatibel mit Tief-UV-Optiksystemen und einfach zu installieren, erfüllen sie präzise Präzisionsanforderungen wie Lithografie und Laserdetektion.
193 nm Glan-Taylor-Polarisator nutzt doppelbrechende α-BBO-Kristalle, die durch einen Luftspalt getrennt sind, um Absorptionsprobleme durch Klebematerialien im tiefen UV-Bereich zu vermeiden. Einschichtige MgF₂-Antireflexbeschichtungen gewährleisten eine hohe Transmission bei 193 nm bei gleichzeitig hervorragender Extinktion. Dank der hohen Laserzerstörschwelle eignet es sich ideal für die hochpräzise Polarisationskontrolle in Anwendungen wie der ArF-Excimerlaserlithografie und der Tief-UV-Laserbearbeitung. Merkmale: Luftspalt In der Nähe von Brewster's Angle Cutting Hohe Polarisationsreinheit Transmission im tiefen Ultraviolett
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Das 193-nm-Glan-Laserprisma verwendet EUV-Kristalle mit hoher optischer Gleichmäßigkeit und ausgezeichneter Polarisationsstabilität bei schmaler Bandbreite. Die präzise Verpackung reduziert die optische Wegabweichung und eignet sich für die hochpräzise Tief-UV-Lasererkennung. Merkmale:LuftspaltIn der Nähe von Brewster's Angle CuttingHohe PolarisationsreinheitMit Fluchtfenster montiertGeeignet für Hochleistungsanwendungen
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Rochon-Polarisator trennt den einfallenden Strahl in einen ordentlichen und einen außerordentlichen Strahl wie ein Wollaston-Polarisator, aber der außerordentliche Strahl wird gerade durchgelassen, während der ordentliche Strahl mit einem Ablenkungswinkel durchgelassen wird. Merkmale: Optisch kontaktiert Hohe Polarisationsreinheit Geeignet für Anwendungen mit niedriger oder hoher Leistung
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193 nm Niedrige Ordnung Wellenplatte, ein Polarisationsgerät für tiefes Ultraviolett, passt den Polarisationszustand des einfallenden Lichts präzise an. Es wird in DUV-Systemen wie der Lithografie und der Laserforschung eingesetzt und besteht aus strahlungsresistenten Materialien für 193 nm, um Stabilität und Genauigkeit zu gewährleisten. Merkmale: Dicke: 0,1-0,5 mm Hohe Schadensschwelle
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Die 193 nm luftbeabstandete Nullordnungs-Wellenplatte ohne Klebeschichten verfügt über eine hohe strukturelle Stabilität und ist alterungsbeständig. Quarz ist korrosionsbeständig gegenüber tiefer UV-Strahlung und eignet sich für den kontinuierlichen Hochleistungslaserbetrieb mit konsistenter Polarisationskontrolle. Merkmale:LuftspaltDicke 0,3~1,5 mmHohe SchadensschwelleAR-beschichtet und montiert
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Die VUV-Polarisatoren der Serie „Customized for Laser“ arbeiten bei einer Wellenlänge von 193,368 nm und decken einen Wellenlängenbereich von 160 bis 250 nm ab. Diese Serie umfasst VUV-Dünnkristallpolarisatoren, Rochon-Polarisatoren, Glan-Polarisatoren und VUV-Weitwinkelwellenplatten. Diese Produkte eignen sich für verschiedene Laseranwendungsszenarien. Dank ihrer hohen Präzision und Zuverlässigkeit bieten sie professionelle Polarisationslösungen für den Vakuum-Ultraviolett-Laserbereich. Ob für wissenschaftliche Forschung oder industrielle Anwendungen – sie erfüllen die hohen Anforderungen unserer Kunden an optische Komponenten. Bei Bedarf kontaktieren Sie uns gerne.
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